小型甩帶機 高真空單輥旋淬系統(tǒng)產(chǎn)品概述：

系統(tǒng)主要由感應(yīng)熔煉真空室、爐門、單輥旋淬裝置、感應(yīng)熔煉機構(gòu)、電動直線進給機構(gòu)、噴鑄系統(tǒng)、工作氣路、系統(tǒng)抽氣、真空測量及電氣控制系統(tǒng)、安裝機架等各部分組成。

小型甩帶機 高真空單輥旋淬系統(tǒng)設(shè)備用途：

高真空單輥旋淬及噴鑄系統(tǒng)是用來制備和開發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的專用設(shè)備，該設(shè)備具有制備金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作，廣泛用于新型稀土永磁材料、非晶軟磁材料及納米材料科學(xué)的開發(fā)與研究。

主要技術(shù)參數(shù)

1、樣品最大熔煉量：20g

2、輥輪尺寸：φ200mmx40(不帶水冷)

3、銅棍速度：0-6000r/min

4、真空度：根據(jù)真空系統(tǒng)確定

5、熔煉電源功率：7.5KW;15Kw

6、熔煉溫度：0-2000℃（根據(jù)坩堝與功率確定）

7、熔煉坩堝：石英，石墨和氮化硼

8、條帶寬度：1-10mm

9、真空腔尺寸：300×300×480mm (L*W*H)

10、設(shè)備尺寸：620*560*780m（L*W*H）

11、桌面式設(shè)計，占地空間小，特別節(jié)約實驗空間和能源

工程條件

1、設(shè)備總功率: 18Kw

2、總進線要求:三相，380V, 50Hz

3、設(shè)備總重量:^ 220Kg

4、設(shè)備占地面積: 1000*600*700mm (長*寬*高）

典型應(yīng)用

熔態(tài)單輥旋淬法制備條帶非晶材料，以及真空噴鑄法制備大塊非晶材料。適用于大專院校、科研院所及企業(yè)進行新材料的科研